等离子体清洗
半导体领域
应用概述
等离子清洗技术为塑料、金属、铝或玻璃的后续喷涂工艺提供了最佳的先决条件。
应用详情

采用干式的常压等离子清洗技术可以在清洗完成之后立即进行后续加工。这项应用,将确保整个工艺流程的清洁和低成本。由于等离子体拥有较高的能量,因此能够选择性分解材料表面化学或有机物质。通过超细清洁,即使是在敏感表面的有害物质,也能彻底清除。这样就为后续的涂层工艺准备了最佳的先决条件。

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